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鈍化產品CVD涂層特點及優勢分析

  • 發布日期:2021-03-26      信息來源:本站      瀏覽次數:2306
    • 鈍化技術是以材料表面涂覆CVD涂層來實現的,CVD是一種通過化學氣相沉積的方法應用于材料表面的技術。

       

       

      CVD(化學氣相沉積)是一種將揮發性前體(通常是在真空下)注入腔體內的反應過程,腔室加熱到反應溫度,使前體氣體發生反應或分解成所需的涂層并與材料表面結合。隨著時間推移,涂覆材料建立在表面上并在暴露部分的表面形成涂層。

      例如,如果想把硅附著在材料表面,需要使用三氯硅烷(SiHCl3)前體,SiHCl3室加熱時,分解和涂層反應如下:

       

      SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl

       

      硅將結合到任何暴露的表面內部和外部,而氯氣和鹽酸氣體將從腔室排放并根據適當的法規要求進行清除。

       

       

      CVD涂層系統中使用的材料從硅化合物到碳化合物,到氟碳或有機氟,以及類似氮化鈦這樣的氮化物。一些材料如硅,可以通過摻雜表面改變或添加額外的化學物質來進一步增強涂層的功能,以達到特定的性能目標。

      化學氣相沉積不同于物理氣相沉積PVD等其他常見的涂層應用方法,與化學氣相沉積相比,大多數常見的涂層噴涂工藝會導致視線外盲區不均勻的涂覆存在,化學氣相沉積涂層理論上可以應用于涂層氣體能進入的任何區域,下圖形象表示出兩種涂覆的區別。

       


      SilcoTek®公司CVD涂層工藝的特點

      ·在高溫下應用以促進反應;

      ·涂裝前必須清除零件表面的污染物;

      ·涂層氣體將覆蓋零件的所有區域,包括螺紋、盲孔和內部表面;

      ·涂層在反應過程中粘結到表面,與典型的PVD涂層相比,創造了*的附著力。

      SilcoTek®公司CVD涂層的優勢:

      ·可廣泛應用于各種基材,包括金屬和金屬合金、陶瓷,玻璃;

      ·可噴涂精密表面和復雜表面,包括密封區域和內部表面;

      ·能承受低溫、高溫溫度變化;

      ·持久的涂層與基材結合意味著涂層在高應力環境中保持結合,即使基材表面彎曲也能適應。 

      北京明尼克分析儀器設備中心全面代理美國SilcoTek®公司鈍化產品,長年備有鈍化產品現貨,同時承接硅鈍化表面處理技術定制服務,在硅表面鈍化處理領域為您提供全方面支持與服務。

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